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桌面型掩膜对准紫外光刻机-手动版

2025-03-03 15:44:59

主要性能指标
1、 曝光类型:单面;
2、 曝光面积:110×110mm;
3、 曝光照度不均匀性:≤±5%;
4、 紫外光束角:≤5°
5、 紫外光中心波长:254nm/365nm(出厂时标准配置为 365nm,其他波段可选配,需在订货时提出);
6、 紫外光源时间:≥2 万小时;
7、 采用电子快门;
8、 曝光分辨率:2μm;
9、 显微镜扫描范围:X:±50mm,Y:±50mm;
10、 对准范围:X、Y 调节±6.5mm,Q 向 360°粗调,±5°精调;
11、 套刻精度:2μm(用户的“版”、“片”精度必须符合国家规定,环境、温度、湿度、尘埃能得到严格控制,采用进口正性光刻胶,且匀胶厚度能得到严格控制,加之前后工艺先进);
12、 曝光方式:接触式曝光;
13、 显微系统:单目 CCD 显微系统,2000 倍金相同轴光显微镜;光学放大倍数 0.7X-4.5X; 高清 2K 工业 CCD 相机;LED 同轴光源;13.3 寸挂屏;
14、 掩模版尺寸:≤127×127mm;
15、 基片尺寸:≤Φ100mm;
16、 基片厚度:≤5mm;
17、 曝光定时:0~999.9 秒(可调);
18、 电源:单相 AC220V 50HZ;
19、 设备所需能源:220V±10%,50HZ;
工作条件
1、安装环境:
(1) 建议室温保持在 25℃±2℃(77°F±3.6°F 华氏)。
(2) 相对湿度不超过 60%
(3) 振动,因为曝光机要求很高的对准精度,故要求机器安装在无振动的地方,保持振幅不超过 4μm。
(4) 净化。房间的净化也很重要,特别是生产线条很细的产品,希望房间净化到 100 级。
2、对掩版的要求:
该机对掩版厚度无要求而外形尺寸和不平整度都应符合国家标准。

联系方式
联系人:李先生
地址:新吴区新洲路28号
手机: 15396797186
电话: 15396797186
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