主要用途
该设备是专门针对各大院校及科研单位研发使用的一种喷淋式显影机机，主要用于各种中小规模半导体元器件、光电器件等产品的研发及生产的使用。
产品特点
配有水平校准装置，保证喷淋均匀，可对大小不同规格的基片进行喷淋显影。
采用 7 寸全彩触摸屏，程序可编程操控显示，可进行多组数据存储，最多可存 100 组。
采用多阶段转速设定，喷淋后可用高转速并开启氮气吹扫甩干。
不锈钢喷塑涂层旋涂壳体，材料耐酸碱防腐蚀，在苛刻条件下仍能正常运行。
采用喷淋式冲洗显影，液量可调节控制。
安全保护:盖子自锁功能，盖子打开卡盘停止，防止飞片盖弹开伤人。
技术参数
项目 | 参数 | 项目 | 参数 |
*基片尺寸 | 5-150mm | *进液速度 | 0~100% |
*速度范围 | 1-10000RPM(空转) | *真空泵 | AP-550V无油泵 |
*转速分辨率 | 1RPM | *设置数据 | 每组5 段转速(标配) |
*转速稳定度 | ±0.1% | *清洗时间 | 1-999 秒 |
*加速度范围 | 1-5000RPM | *显影时间 | 1-999 秒 |
*液量控制 | 10-800ml | *甩干时间 | 1-999 秒 |
*人机界面 | 7 寸触摸屏 | *存储时间 | 20 组数据 |
*清洗方式 | 喷淋式 | *设备尺寸 | 500*390*300mm(长*宽*高) |
*甩干方式 | 氮气吹干 |
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