产品详情
金属掩膜版
金属掩模版,是通过激光或者光刻刻蚀工艺,形成镂空的微结构。
可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等设备中,用来制备太阳能电池,光电探测器,LED,激光器,场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。
我们可以提供高规格的金属掩膜版:
(1)孤立线条:<5um
(2)密集线条:<10um
(3)金属厚度:10~150um
金属掩膜版
金属掩模版,是通过激光或者光刻刻蚀工艺,形成镂空的微结构。
可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等设备中,用来制备太阳能电池,光电探测器,LED,激光器,场效应晶体管等各种器件电极及各种薄膜材料图形设计。
我们可以提供高规格的金属掩膜版:
(1)孤立线条:<5um
(2)密集线条:<10um
(3)金属厚度:10~150um